Monomers, photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns

모노머, 포토레지스트 조성물 및 포토리소그래피 패턴의 형성 방법

Abstract

아세탈 부분을 함유하는 (메트)아크릴레이트 모노머, 상기 모노머로부터 형성된 단위를 함유하는 폴리머 및 이 폴리머를 함유하는 포토레지스트 조성물이 제공된다. 상기 모노머, 폴리머 및 포토레지스트 조성물은 포토리소그래피 패턴을 형성하는데 유용하다. 포토레지스트 조성물로 코팅된 기판, 포토리소그래피 패턴 형성 방법 및 전자 디바이스가 또한 제공된다. 이들 조성물, 방법 및 코팅 기판은 반도체 디바이스의 제조에 특히 적용가능하다.

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Patent Citations (1)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    WO-9011306-A1October 04, 1990Ciba-Geigy AgHydrogels a base de monomeres d'alcool de sucre

NO-Patent Citations (1)

    Title
    Liebigs Ann. Chem. 1991, 1079-1081 (1991.10.16.)*

Cited By (0)

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