원자층 증착장치

Abstract

대면적 기판을 처리할 수 있는 대면적 원자층 증착장치가 개시된다. 대면적 원자층 증착장치는, 프로세스 챔버, 상기 프로세스 챔버 내부에 구비되고, 복수의 기판이 원형으로 배치되어서 장착되는 서셉터 및 상기 서셉터 상부에 구비되어서 상기 기판에 증착가스를 제공하는 가스공급부를 포함하여 구성된다. 여기서, 상기 서셉터와 상기 가스공급부 중 어느 한쪽이 회전 가능하게 형성된다. 또한, 상기 가스공급부는, 상기 증착가스 중 반응가스를 제공하며, 공정 동안 연속적으로 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 제공부, 상기 증착가스 중 소스가스를 제공하는 소스부 및 상기 소스부에 구비되어서 상기 기판에 퍼지가스를 제공하는 퍼지부를 포함하여 구성된다.

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      Publication numberPublication dateAssigneeTitle
      KR-101114219-B1March 05, 2012주성엔지니어링(주)광원을 포함하는 원자층 증착장치 및 이를 이용한 증착방법
      KR-101396462-B1May 20, 2014엘아이지에이디피 주식회사Atomic layer deposition apparatus

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